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[鑫藍動態]半導體行業的廢氣有哪些，如何處理？[ 2024-01-18 00:00 ]

半導體行業的廢氣主要包括一般氣體廢氣、含毒性物質的廢氣、有機廢氣和含有酸性/堿性物質的廢氣。其中，有機廢氣包括非甲烷總烴、氮氧化物、二氧化硫等，酸堿廢氣包括氨氣、硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣等。這些廢氣的產生主要來自半導體制造過程中的清洗、刻蝕、顯影等環節。對于這些半導體廢氣處理，需要根據其性質選擇合適的方法，如洗滌法、吸附法、燃燒法等。同時，還需要注意控制處理效果，確保廢氣排放符合的相關標準。半導體廢氣處理方法有多種，主要包括以下幾種：熱氧化法

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[鑫藍動態]半導體工業廢氣處理[ 2023-07-18 00:00 ]

半導體廢氣的成分和廢氣處理工藝方案可能會因具體的工藝過程和廢氣排放點而有所不同。以下是一般情況下常見的半導體廢氣成分和廢氣處理工藝方案的示例： 1.半導體廢氣成分：氣體：常見的廢氣成分包括氨氣（NH3）、二氧化硫（SO2）、氮氧化物（NOx）、氯化氫（HCl）、二氧化碳（CO2）、揮發性有機化合物（VOCs）等。懸浮顆粒物：半導體制造過程中可能產生微小的顆粒物，如硅塵、金屬氧化物等。 2.半導體廢氣處理工藝方案：

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[鑫藍動態]鑫藍環保-半導體廢氣處理-沸石轉輪+催化燃燒[ 2023-03-24 00:00 ]

新材料行業半導體廢氣處理的方法。半導體行業與傳統材料相比，新材料產業具有技術高度密集，研究與開發成本高，產品的附加值高，生產與市場的強，應用范圍廣，發展前景好。一、半導體制造工藝過程中揮發各種有機廢氣，廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。這些廢氣排放主要可以分為四類：酸堿氣體、有機廢氣。　　1、酸堿廢氣主要來自擴散、CVD、CMP及刻蝕等工序，這些工序使用酸堿清洗液對晶片進行清洗。目前，在半導體制造工藝中使用普遍的清洗溶劑為過氧化氫和硫酸的混合劑。　　2、

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[鑫藍動態]新材料半導體廢氣處理用什么工藝好呢[ 2023-03-08 00:00 ]

隨著發展，目前市場上新材料行業與傳統材料相比，其應用范圍更廣了，新材料產業的研究與開發成本高，產品的附加值高在生產與市場性強，而且新材料半導體行業的發展前景好。而新材料半導體行業在加工的過程中采用清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑，這些溶劑中含有大量的有機物成分，在整個工藝加工的過程中將會有部分的有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放，這部分揮發的廢氣主要成分為具有揮發性的VOCs，下面鑫藍環保科技（昆山）有限公司講解一下關于：新材料半導體廢氣處理。新材料半導體行業廢氣

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[鑫藍動態]電子半導體廢氣處理應該用什么工藝[ 2023-02-04 00:00 ]

電子半導體廢氣處理應該用什么工藝？當今是以半導體技術為核心的信息時代，半導體在生產的過程中將會產生大量的有毒有害氣體、有機和無機物等，那電子半導體廢氣處理用什么工藝？　　電子半導體行業在生產時會使用顯影劑、光刻膠、清潔劑、蝕刻液等溶劑，而這些溶劑是含有大量的有機物成分。　　工業上的有機廢氣處理常用的工藝有：活性炭吸附法、酸堿中和法、燃燒法、催化燃燒法、吸收法、冷凝法等。　　目前，電子半導體行業的廢氣采用吸附、焚燒兩者相結合的廢氣處理方法。　　活性炭吸附：其原理是利用多孔性固體吸

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